Física, perguntado por vitorsilvalove5640, 4 meses atrás

Quais as principais vantagens do modelo de deposição pecvd operando em regime de não colisões?.

Soluções para a tarefa

Respondido por jaquersantana
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O modelo de deposição PECVD operando em regime de não colisões tem como principais vantagens proporcionar alta aderência entre filmes DLC - sigla para "Diamond-like carbon" - e os substratos respectivos.

Sobre o modelo de deposição PECVD

  • O modelo PECVD ( sigla para "Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition" que em tradução para português fica "Deposição Química a Vapor Assistida por Plasma") consiste em um técnica para a deposição filmes finos do estado gasoso para o sólido em um determinado substrato.

  • Nesse sentido, esse modelo, operando em regime de não colisões, tem como em como uma de suas principais vantagens proporcionar alta aderência entre filmes DLC e os substratos respectivos.

  • O que, como resultado, gera filmes mais aderentes, mais duros, menos hidrogenados e ainda com um menor coeficiente de atrito.

Para consultar sobre coeficiente de atrito clique aqui: https://brainly.com.br/tarefa/24259583

Bons estudos!

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